低介电常数材料基于硅基高分子的低介电常数材料
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发布时间：2024-10-21 15:02
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时间：2024-11-11 07:42
在研发低介电常数材料的领域，硅基高分子材料展现出了显著的优势，其中两种主要类型是hydrogen silsesquioxane（HSQ）和methylsilsesquioxane（MSQ）。
以HSQ为基础的代表性产品是来自Dow Chemical的FOx，这款材料以其出色的电性能而受到关注，它的介电常数k值仅为2.9，这意味着它在电子器件中能有效减小电场的传播，提高信号传输的效率。
另一种硅基高分子MSQ，即methylsilsesquioxane的缩写，同样是一种重要的低介电常数材料。MSQ因其独特的化学结构和良好的稳定性，在电子和光电器件中被广泛应用，其低介电特性有助于减小设备尺寸，提升整体性能。
