（12）发明专利申请
（21）申请号 CN02142279.6 （22）申请日 2002.08.29
（71）申请人 东京应化工业株式会社
地址 日本神奈川县
（10）申请公布号 CN1403876A （43）申请公布日 2003.03.19
（72）发明人 横井滋;肋屋和正
（74）专利代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 吴磊
（51）Int.CI
G03F7/42;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
（57）摘要
本发明提供一种光刻胶用剥离液，其中含
有(a)含羧基的酸性化合物、(b)烷醇胺类和特定的季铵氢氧化物中选出的至少1种碱性化合物(例如单乙醇胺、氢氧化四烷基铵等)、(c)含硫防腐蚀剂、以及(d)水，且pH值为3.5～5.5。另外，本发明还提供使用该剥离液的光刻胶剥离方法。本发明提供的光刻胶用剥离液，其对金属布线、特别是Cu布线的防腐蚀性优良，不会损坏低介电
体层和有机SOG层等层间膜，而且光刻胶膜和灰化处理后的残渣物的剥离性优良。
法律状态
法律状态公告日
2003-03-19 2003-05-28 2006-07-12
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
法律状态
公开
实质审查的生效 授权
权利要求说明书
光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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