(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109023371 A(43)申请公布日 2018.12.18
(21)申请号 201810802485.4(22)申请日 2018.07.20
(71)申请人 江阴润玛电子材料股份有限公司
地址 214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇
欧洲工业园区(72)发明人 戈烨铭
(74)专利代理机构 江阴义海知识产权代理事务
所(普通合伙) 32247
代理人 司志红(51)Int.Cl.
C23F 1/44(2006.01)C09K 13/06(2006.01)
权利要求书1页 说明书10页 附图2页
(54)发明名称
一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液及其制备工艺(57)摘要
本发明公开了一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，钼铝钼及ITO层的厚度比为1∶4～6∶1～4∶1～3，蚀刻液质量份配比为：磷酸50～80
纯水5～10份，有机份，硝酸3～6份，醋酸15～30，
多元膦酸类物质3～10份，钼盐类物质3～5份，非离子型表面活性剂2～5份。本发明蚀刻液对柔性面板上的钼铝钼ITO薄膜层蚀刻速率基本一致，且稳定无残留，对柔性面板无腐蚀，刻蚀边缘清晰无侧蚀，该发明公开的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液制备工艺简单，便于工业化生产。CN 109023371 ACN 109023371 A
权 利 要 求 书
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1.一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述钼铝钼及ITO层的厚度比为1∶4～6∶1～4∶1～3，所述蚀刻液质量份配比为：磷酸50～80份，硝酸3～6份，醋酸15～30，纯水5～10份，有机多元膦酸类物质3～10份，钼盐类物质3～5份，非离子型表面活性剂2～5份。
2.如权利要求1所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于：所述有机多元膦酸类物质为羟基亚乙基二膦酸、亚乙基二胺四亚甲基膦酸、六亚甲基二胺四亚甲基膦酸、多氨基多醚基甲叉膦酸、二亚已基三胺五亚甲基磷酸、氨基三亚甲基膦酸、1,2,4-三羧酸-2-膦酸基丁烷、2-羟基膦酰基乙酸中的一种。
3.如权利要求2所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于：所述盐类物质为硝酸钼、氯化钼中的一种，盐类物质的纯度高于99.5％。
4.如权利要求3所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于：所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
5.如权利要求4所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于：所述非离子型表面活性剂为仲醇聚氧乙烯醚、硬脂酸聚氧乙烯醚中的一种。
6.如权利要求5所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，其特征在于：所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的不超过600个，杂质阳离子不超过20ppb，杂质阴离子不超过0.05ppb。
7.一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1：酸液预处理，按权利要求1所述的蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；
S2：蚀刻液配置，按权利要求1所述的蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；
S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。
8.如权利要求7所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，其特征在于：所述强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。
9.如权利要求8所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，其特征在于：所述强酸性阳离子交换树脂与所述磷酸、硝酸和醋酸总质量比为0.3～0.5。
10.如权利要求9所述的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，其特征在于：所述过滤的次数大于三次，所述真空过滤器的滤膜孔径为0.01～0.05μm。
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说 明 书
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一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液及其制备工艺
技术领域
[0001]本发明属于化学刻蚀技术领域，具体设计一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液及其制备工艺。
背景技术
[0002]蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻，其中，湿蚀刻是采用化学试剂，经由化学反应达到蚀刻的目的。钼层和铝层膜，主要作用于半导体、TFT和TP触控面板中，由于铝或铝合金与作为基底膜的玻璃基板之间的密合性(粘附性)不好，且容易被外界环境中的酸，碱和热所腐蚀，因此需要在铝或铝合金的上部和下部使用钼或钼合金的膜层作为叠层膜，并使用蚀刻液将其叠层膜一起蚀刻出所需要的图形。
[0003]氧化铟锡(ITO)导电膜具有低电阻率、高可见光透过率、高红外反射、对衬底具有很好的附着性、抗擦伤等诸多优良的物理性能，以及良好的化学稳定性等特点，容易制备形成电极图形，已被广泛应用于LCD、PDP、FED、OLED/PLED等平板显示器上作为透明电极。为制备出所需要的电极图形，需要对ITO导电膜进行蚀刻，通常采用的是湿法蚀刻。采用该方法制备电极图形时，通常是在非导电基板上沉积一层ITO膜，并在ITO膜上覆盖一层铜/抗腐蚀有机聚合物层，该铜/抗腐蚀有机聚合物层为所需要的电极图形，然后通过ITO蚀刻液将裸露在外的ITO部分蚀刻掉，露出底层基板，则留下的ITO和铜/抗腐蚀有机聚合物层即为所需要的电极图形，后期再将该图形ITO上覆盖的铜/抗腐蚀有机聚合物层去除掉即可。[0004]现有技术中钼铝钼ITO蚀刻液呈酸性，主要由磷酸、硝酸和醋酸经搅拌混匀过滤制得，上述蚀刻液已广泛应用于薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-LCD)、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)等行业用于柔性面板制作过程中钼层、铝层、ITO层的蚀刻中。但在钼铝钼及ITO材料蚀刻过程中，由于各层薄膜的厚度不同以及蚀刻液与各层薄膜的反应速率不同，往往难以控制蚀刻角度和不同金属层的蚀刻量，影响产品的良率。发明内容
[0005]本发明的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，本发明蚀刻液对柔性面板上的钼铝钼ITO薄膜层蚀刻速率基本一致，且稳定无残留，对柔性面板无腐蚀，刻蚀边缘清晰无侧蚀，该发明提供的一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液制备工艺简单，便于工业化生产。[0006]为实现上述目的，本发明的技术方案提供了一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液，所述钼铝钼及ITO层的厚度比为1∶4～6∶1～4∶1～3，所述蚀刻液质量份配比为：磷酸50～80份，硝酸3～6份，醋酸15～30，纯水5～10份，有机多元膦酸类物质3～10份，钼盐类物质3～5份，非离子型表面活性剂2～5份。[0007]优选地，所述有机多元膦酸类物质为羟基亚乙基二膦酸、亚乙基二胺四亚甲基膦酸、六亚甲基二胺四亚甲基膦酸、多氨基多醚基甲叉膦酸、二亚已基三胺五亚甲基磷酸、氨
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说 明 书
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基三亚甲基膦酸、1,2,4-三羧酸-2-膦酸基丁烷、2-羟基膦酰基乙酸中的一种。[0008]优选地，所述盐类物质为硝酸钼、氯化钼中的一种，盐类物质的纯度高于99.5％。[0009]优选地，所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。[0010]优选地，所述非离子型表面活性剂为仲醇聚氧乙烯醚、硬脂酸聚氧乙烯醚中的一种。
[0011]优选地，所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的不超过600个，杂质阳离子不超过20ppb，杂质阴离子不超过0.05ppb。
[0012]一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：[0013]S1：酸液预处理，按权利要求1所述的蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；[0014]S2：蚀刻液配置，按权利要求1所述的蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；[0015]S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0016]优选地，所述强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。[0017]优选地，所述强酸性阳离子交换树脂与所述磷酸、硝酸和醋酸总质量比为0.3～0.5。
[0018]优选地，所述过滤的次数大于三次，所述真空过滤器的滤膜孔径为0.01～0.05μm。[0019]本发明的优点和有益效果在于：[0020]1、本发明通过蚀刻液成分配比的优化调整，保证了柔性面板的蚀刻锥角为45～60°，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察蚀刻后的基板表面整洁，无残留，无金属间分层现象，剩余线条平整无侧蚀。[0021]2、蚀刻液中在特定含量的磷酸、硝酸、冰醋酸存在的前提下，加入上述含量的有机多元膦酸和钼盐，一定程度上降低了钼层薄膜的蚀刻速率并高了铝层薄膜的蚀刻速率，同时保证了蚀刻液对钼、铝和ITO层蚀刻速率的一致性，且一定程度的降低了蚀刻液的成本。[0022]3、蚀刻液中含有非离子型表面活性剂，适度降低了蚀刻液的表面张力，提高了蚀刻液的润湿性能和均一稳定性。[0023]4、本发明提供的蚀刻液的制备工艺简单，采用真空过滤方式提高了产品效率和质量，便于工业化生产和推广应用。附图说明
[0024]图1为实施1钼铝钼及ITO层线条截面的SEM图；[0025]图2为实施2钼铝钼及ITO层线条截面的SEM图；[0026]图3为实施3钼铝钼及ITO层线条截面的SEM图；[0027]图4为实施4钼铝钼及ITO层线条截面的SEM图。
具体实施方式
[0028]下面结合实施例及附图，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅
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用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。[0029]说明：经实验验证，同一种磷酸、硝酸、醋酸的混酸蚀刻液对钼层、铝层、ITO层的蚀刻速率分别为v1、v2、v3，且v1＞v3＞v2。[0030]实施例1
[0031][0032]
钼铝钼及ITO层的厚度分别为
(1)钼铝钼及ITO兼容蚀刻液组成及制备
[0033]钼铝钼及ITO兼容蚀刻液按质量份配比：磷酸50份，硝酸4份，醋酸20，纯水8份，有机多元膦酸类物质5份，盐类物质4份，非离子型表面活性剂2份。[0034]所述有机多元膦酸类物质为羟基亚乙基二膦酸。[0035]所述盐类物质为硝酸钼，纯度高于99.5％[0036]所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
[0037]所述非离子型表面活性剂为仲醇聚氧乙烯醚。[0038]所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的500个，杂质阳离子为10ppb，杂质阴离子为0.04ppb。
[0039]一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：[0040]S1：酸液预处理，按上述蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；[0041]S2：蚀刻液配置，按上述蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；[0042]S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0043](2)蚀刻操作
[0044]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，并使柔性面板转速保持20～100rpm，钼铝钼蚀刻液温度为30～40℃，蚀刻10s取出，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察柔性面板上层钼铝钼及ITO层的蚀刻情况，重复上述操作，直至钼铝钼及ITO层完全刻蚀；用超纯水漂洗3min，用高纯氮气干燥。[0045]实施例2
[0046][0047]
钼铝钼及ITO层的厚度分别为
(1)钼铝钼及ITO兼容蚀刻液组成及制备
[0048]钼铝钼及ITO兼容蚀刻液按质量份配比：磷酸60份，硝酸5份，醋酸15，纯水5份，有机多元膦酸类物质3份，盐类物质3份，非离子型表面活性剂3份。[0049]所述有机多元膦酸类物质为亚乙基二胺四亚甲基膦酸。[0050]所述盐类物质为氯化钼，纯度高于99.5％[0051]所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
[0052]所述非离子型表面活性剂为硬脂酸聚氧乙烯醚。[0053]所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的400个，杂质阳离子为15ppb，杂质阴离子为0.03ppb。
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CN 109023371 A[0054]
说 明 书
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一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：
[0055]S1：酸液预处理，按上述蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；[0056]S2：蚀刻液配置，按上述蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；[0057]S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0058](2)蚀刻操作
[0059]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，并使柔性面板转速保持20～100rpm，钼铝钼蚀刻液温度为30～40℃，蚀刻10s取出，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察柔性面板上层钼铝钼及ITO层的蚀刻情况，重复上述操作，直至钼铝钼及ITO层完全刻蚀；用超纯水漂洗3min，用高纯氮气干燥。[0060]实施例3
[0061][0062]
钼铝钼及ITO层的厚度分别为
(1)钼铝钼及ITO兼容蚀刻液组成及制备
[0063]钼铝钼及ITO兼容蚀刻液按质量份配比：磷酸70份，硝酸3份，醋酸25，纯水10份，有机多元膦酸类物质8份，盐类物质5份，非离子型表面活性剂4份。[0064]所述有机多元膦酸类物质为多氨基多醚基甲叉膦酸。[0065]所述盐类物质为硝酸钼，纯度高于99.5％[0066]所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
[0067]所述非离子型表面活性剂为仲醇聚氧乙烯醚。[0068]所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的600个，杂质阳离子为18ppb，杂质阴离子为0.05ppb。
[0069]一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：[0070]S1：酸液预处理，按上述蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；[0071]S2：蚀刻液配置，按上述蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；[0072]S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0073](2)蚀刻操作
[0074]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，并使柔性面板转速保持20～100rpm，钼铝钼蚀刻液温度为30～40℃，蚀刻10s取出，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察柔性面板上层钼铝钼及ITO层的蚀刻情况，重复上述操作，直至钼铝钼及ITO层完全刻蚀；用超纯水漂洗3min，用高纯氮气干燥。[0075]实施例4
[0076][0077]
钼铝钼及ITO层的厚度分别为
(1)钼铝钼及ITO兼容蚀刻液组成及制备
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CN 109023371 A[0078]
说 明 书
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钼铝钼及ITO兼容蚀刻液按质量份配比：磷酸80份，硝酸10份，醋酸30，纯水9份，有
机多元膦酸类物质10份，盐类物质3份，非离子型表面活性剂5份。[0079]所述有机多元膦酸类物质为1,2,4-三羧酸-2-膦酸基丁烷。[0080]所述盐类物质为硝酸钼，纯度高于99.5％。[0081]所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
[0082]所述非离子型表面活性剂为硬脂酸聚氧乙烯醚。[0083]所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的550个，杂质阳离子为20ppb，杂质阴离子为0.04ppb。
[0084]一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：[0085]S1：酸液预处理，按上述蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得预处理酸液；[0086]S2：蚀刻液配置，按上述蚀刻液质量份配比，将有机多元膦酸、盐类物质和非离子型表面活性剂加入到预处理酸液中，充分超声搅拌30min，得蚀刻液初产品；[0087]S3：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0088](2)蚀刻操作
[0089]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，并使柔性面板转速保持20～100rpm，钼铝钼蚀刻液温度为30～40℃，蚀刻10s取出，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察柔性面板上层钼铝钼及ITO层的蚀刻情况，重复上述操作，直至钼铝钼及ITO层完全刻蚀；用超纯水漂洗3min，用高纯氮气干燥。[0090]对比例1
[0091][0092]
钼铝钼及ITO层的厚度分别为
(1)钼铝钼及ITO兼容蚀刻液组成及制备
[0093]钼铝钼及ITO兼容蚀刻液按质量份配比：磷酸80份，硝酸10份，醋酸30，纯水9份。[0094]所述磷酸的质量分数浓度为85％，所述硝酸的质量分数浓度为69％，所述醋酸的质量分数浓度为99.5％。
[0095]所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.1μm的550个，杂质阳离子为20ppb，杂质阴离子为0.04ppb。
[0096]一种柔性面板用钼铝钼及ITO兼容蚀刻液的制备工艺，包括如下步骤：[0097]S1：蚀刻液配置，按上述蚀刻液质量份配比，将磷酸、硝酸、醋酸、纯水分别加入配酸釜中，超声搅拌混合，将强酸性阳离子交换树脂加入配酸釜中，超声搅拌30min，滤出强酸性阳离子交换树脂，得蚀刻液初产品；[0098]S2：蚀刻液过滤，将蚀刻液初产品通入真空过滤器中过滤，得蚀刻液。[0099](2)蚀刻操作
[0100]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，并使柔性面板转速保持20～100rpm，钼铝钼蚀刻液温度为30～40℃，蚀刻10s取出，在扫描式电子显微镜(SEM)下观察柔性面板上层钼层的蚀刻情况，直至柔性面板上的钼铝钼及ITO层完全蚀刻；用超纯水漂洗3min，用高纯氮气干燥。
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CN 109023371 A[0101][0102]
说 明 书
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表1 实施例1～4和对比例1的实验结果
序号边缘情况基板表面情况蚀刻角度
实施例1平整光滑干净无残留45°实施例2平整光滑干净无残留50°实施例3平整光滑干净无残留51.6°、51.3°实施例4平整光滑干净无残留54.2°、55.9°对比例1出现凹坑和台阶干净无残留不能控制[0103]实验结果：
[0104]实施例1～4采用本发明蚀刻液进行柔性面板蚀刻实验，实验结果显示钼铝钼及ITO层蚀刻边缘平整光滑，基板表面干净无残留，蚀刻角度控制在40～60°范围内；对比例1采用与实施例4相同的酸液成分，但没有加入有机多元膦酸类物质、钼盐以及非离子表面活性剂，实验结果显示钼铝钼及ITO层蚀刻边缘出现凹坑和台阶，基板表面干净无残留，由于边缘出现凹坑和台阶且蚀刻角度不能控制。
[0105]蚀刻液与柔性面板钼铝钼ITO层反应机理：
[0106]将镀有钼铝钼ITO薄膜的柔性面板浸渍于盛有上述蚀刻液的蚀刻容器中，蚀刻液与柔性面板表层的金属钼层发生蚀刻反应，由于蚀刻液中含有钼盐钼盐与有机多元膦酸首先达到配位平衡，可以适度降低表层钼盐的反应速率，避免了与光刻胶接触处的表面钼层反应速度过快出现凹坑；表层钼层反应完全后铝层开始反应，铝离子与有机多元膦酸络合适度提高了铝层金属的蚀刻速率，使钼层与铝层薄膜的蚀刻速率基本一致；随着蚀刻反应的进行，蚀刻液中酸浓度会逐渐降低，进而适度降低了蚀刻液与ITO层薄膜的蚀刻速率，最终使得蚀刻液与钼层、铝层、ITO层薄膜的蚀刻速率基本一致，保证了蚀刻后的柔性面板边缘没有出现金属间分层现象，剩余线条平整无侧蚀，且蚀刻后的基板表面整洁，无残留。[0107]本实施例中优选的方式为，非离子型表面活性剂具有耐强酸的性能，不仅适度降低了蚀刻液的表面张力，还提高了蚀刻液的润湿性能和均一稳定性。[0108]上述实施例制成的钼铝钼ITO蚀刻液，其原料的物理化学指标可控制在：[0109]浓度为85％的磷酸，优等品，其指标如下：[0110]1.1物理特性
[0111]
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CN 109023371 A[0112]
说 明 书
7/10页
[0113][0114]
1.2微量杂质
杂质ppb max控制参数钙(Ca)100镉(Cd)100钴(Co)100铜(Cu)20铁(Fe)100钾(K)100镁(Mg)20锰(Mn)10钠(Na)100镍(Ni)50铅(Pb)20锌(Zn)100[0115]浓度为69％的硝酸，优等品，其指标如下：1.1物理特性
[0116]
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CN 109023371 A[0117]
说 明 书
8/10页
[0118][0119]
1.2微量杂质
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CN 109023371 A[0120]
说 明 书
9/10页
[0121][0122][0123]
浓度为99.5％的醋酸，优等品，其指标如下：1.1物理特性
特性参数99.5≤10≤0.002≤0.01≤0.5≤0.5≤0.5≤100
特性名称醋酸wt％色度(Hazen)
还原高猛酸钾物质(以0计)乙酸酐(％)Cl(ppm)PO4SO4
颗粒＞0.5μm(个/ml)[0124]1.2微量杂质
[0125]
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说 明 书
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[0127]
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人
员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
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说 明 书 附 图
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图1
图2
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说 明 书 附 图
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图3
图4
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