专利名称：用于消除散射辐射影响的虚拟滤线栅成像方法及其
系统
专利类型：发明专利发明人：李运祥,曹红光申请号：CN200610114533.8申请日：20061114公开号：CN101109718A公开日：20080123
摘要：本发明公开了一种能够消除散射辐射影响的虚拟滤线栅成像方法及成像系统。该方法主要用在高能射线成像中，首先对到达探测器面的散射线不做滤过，全部采样散射线和直射射线数据，然后对采样后的数据进行散射线分量的分离和抑制，达到消除所成影像中散射线分量的目的。具体包括如下步骤：(1)对于数字图像按频率分解成从高到低的多频段图像；(2)对低频段图像进行去散射处理；(3)对高频段图像进行对比度增强处理；(4)将步骤(2)和步骤(3)处理后的每一频段图像进行合并，形成输出图像。实验证明，在数字X射线成像中，本发明能明显地消除散射线影响，同时可以大幅度降低射线剂量，在得到相同图像亮度的情况下，是普通滤线栅所需剂量的三分之一。
申请人：北京国药恒瑞美联信息技术有限公司
地址：100085 北京市海淀区上地三街九号嘉华大厦D座408室
国籍：CN
代理机构：北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人：陈曦
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