专利名称：一种电阻应变片及压力传感器专利类型：发明专利
发明人：马亚龙,邓义超,戴其兵申请号：CN201810870624.7申请日：20180802公开号：CN109163828A公开日：20190108
摘要：本发明实施例公开了一种电阻应变片，包括有：柔性基底；以及电阻应变传感层，用于根据产生形变的大小改变对应的电阻值，所述电阻应变感应层上形成有感应图案，所述感应图案包括两根相互连接的第一电阻线和第二电阻线，所述第一电阻线和第二电阻线间隔交错设置，且整个感应图案为中心对称，第一电阻线和第二电阻线分别引出一个连接电极。同时，本发明还公开了相应的压力传感器。实施本发明实施例，可以实现各个方向上均匀感测压力，具有灵敏度高的优点。
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
地址：430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
国籍：CN
代理机构：深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)
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