专利名称：用于电子元件加工的光刻装置专利类型：实用新型专利发明人：温景文
申请号：CN201920488424.5申请日：20190412公开号：CN209606773U公开日：20191108
摘要：本实用新型公开了用于电子元件加工的光刻装置，包括箱体、机头、集尘盒，所述箱体后面设置有立柱，所述立柱顶部安装有所述机头，所述机头下面安装有激光头，所述立柱前方设置有夹具，所述夹具和所述箱体螺栓连接，所述夹具一侧设置有防尘罩，所述防尘罩形状为圆弧形，所述防尘罩和所述箱体铆接在一起，所述防尘罩下方设置有排尘口，所述排尘口上面安装有支撑网。本实用新型所述的用于电子元件加工的光刻装置，利用气流喷吹，可以在刻印前先对电子元件表面灰尘进行清理，避免灰尘对激光可以的影响，通过可任意弯折的万向软骨，方便调整喷嘴的位置和气流方向，便于操作，利用集尘盒和过滤网使气流循环流动，减小了灰尘扩散的范围。
申请人：上海驰法电子科技有限公司
地址：201600 上海市松江区洞泾路8号18幢
国籍：CN
代理机构：上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：何艳娥
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