专利名称：用于无掩模光刻的动态补偿系统专利类型：发明专利
发明人：A·S·赖弗斯,T·J·特雷威尔,R·H·卡夫尼,J·T·斯图普
斯,J·M·科布
申请号：CN200780011721.0申请日：20070316公开号：CN101416113A公开日：20090422
摘要：一种用于在基板(3)上动态配准多重图案化层的方法包括：在基板上沉积第一层；在第一层上印制第一图案(20)；在第一图案上沉积第二层；以及在第二层上印制第二图案的同时动态检测第一图案以将第二图案与第一图案对准。
申请人：伊斯曼柯达公司
地址：美国纽约州
国籍：US
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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